JJG 756-1991 光楔密度工作基准装置检定规程

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标准号:JJG 756-1991

标准名称:光楔密度工作基准装置检定规程

发布日期:1991-09-04

实施日期:1992-05-01

起草单位:中国计量科学研究院

起草人:刘允翥(中国计量科学研究院)

本规程适用于光楔密度工作基准装置的检定。

光楔是感光测定中必备的光学部件,其作用是逐级改变曝光量,在感光仪上曝一次光可以得到一系列不同的曝光量。

光楔主要分银质和石墨两种类型,要求具有元光选择性,且呈漫透射性。

光楔密度工作基准装置测定标准光楔的漫透射视觉密度。

测量密度的范围是0 ~ 4D,不确定度为0.01D。

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