T/IAWBS 013-2019 半绝缘碳化硅单晶片电阻率非接触测量方法

免费下载
本平台标准仅供学习参考,使用请以正式出版的标准版本为准。

标准号:T/IAWBS 013-2019

标准名称:半绝缘碳化硅单晶片电阻率非接触测量方法

发布日期:2019-12-27

实施日期:2019-12-31

本标准规定了半绝缘碳化硅电阻率非接触测量方法。

本标准适用于电阻率测量范围: 105Ω?cm-1012Ω?cm;样品直径:50.8mm-200mm;样品厚度范围:250μm—5000μm的衬底。

批发部门:中关村天合宽禁带半导体技术创新联盟

起草单位:中关村天合宽禁带半导体技术创新联盟、中国电子科技集团公司第二研究所、北京世纪金光半导体有限公司、中国电子科技集团公司第五十五研究所、中国电子科技集团公司第四十六研究所。

起草人:侯晓蕊、王英民、李斌、魏汝省、王光耀、王程、马康夫、刘燕燕、田牧、任慧珍、徐伟、毛开礼、潘磊、陆敏、郑红军、刘祎晨。

声明:资源收集自网络分享,所提供的电子版文档仅供学习参考,如侵犯您的权益,请联系我们处理。

不能下载?报告错误