T/CIET 722-2024 半导体用高纯溅射靶材

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标准号:T/CIET 722-2024

标准名称:半导体用高纯溅射靶材

团体名称:中国国际经济技术合作促进会

发布日期:2024年10月23日

实施日期:2024年10月23日

本文件规定了半导体用高纯溅射靶材的技术要求、试验方法、检验规则、标识、包装、运输、贮存。

本文件适用于半导体用高纯溅射靶材。

起草人:刘岩、周钢、祁宇、赵智勇、曾墩风、李玉儒、弓艳飞、孔伟华、韩翠柳、黄勇彪、窦程亮、赵健、刘洪强、吴镇旺、韩伟、臧经梅、童维玉、吴永利、汪贤峰、许艳晶、徐敬铭、包瑾、刘世纪。

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